專業(yè)執(zhí)著 精益求精
新興半導體
引進國外先進半導體材料及高新技術,持續(xù)支持國內(nèi)半導體行業(yè)發(fā)展、滿足日益劇增的市場需求
CMP研磨墊
CMP工藝是通過表面化學作用和機械研磨的技術結合來實現(xiàn)晶圓表面微米/納米級不同材料的去除,從而達到晶圓表面納米級平坦化,使下一步的光刻工藝得以進行。
上??票人箤崢I(yè)有限公司
上??票人箤崢I(yè)有限公司經(jīng)過數(shù)十載的歷練,公司已發(fā)展成集生產(chǎn)、貿(mào)易、銷售為一體的綜合型企業(yè)。從單一的農(nóng)業(yè)領域,逐步向建筑、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療、衛(wèi)浴、新能源、通訊等多元化領域發(fā)展。
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